Nemzetközi
kapcsolatok
University College London
/Prof. Ian W. Boyd/
1. POLIMEREK BESUGÁRZÁSA 172 NM-ES ULTRAIBOLYA
FOTONOKKAL
Az ultraibolya (UV) fotonok igen
hatékonyan képesek szabad gyökök keltésére, mely a megvilágított anyagok fotodegradációjához, molekulaszerkezetük és optikai
tulajdonságaik megváltozásáshoz vezet. Jóllehet
közvetett módon sok anyagot védeni tudunk az UV sugárzás roncsoló hatásától,
komoly igény van olyan anyagokra, melyek mechanikai, termikus, stb.
tulajdonságai – az anyag szerkezetéből adódóan – már eredendően jó UV-védettséggel párosulnak. Az ilyen anyagok
kifejlesztéséhez az út ígéretes modellanyagok viselkedésének megértésén, a fotobomlási folyamatok tanulmányozásán keresztül vezet.
A méréssorozatunkban használt Xe2*
excimer lámpa a rádiófrekvenciás, nagy feszültségű gerjesztés hatására kvázifolytonos, inkoherens, néhány nanométer
sávszélességű sugárzást bocsát ki, melynek központi hullámhossza 172 nm. A 20 és 50 µm vastag PC és a 60 µm–es PEN fóliákat
0.5 perctől 20 percig terjedő
időtartamokig sugároztuk be 40 mW cm-2
energiasűrűségű vákuum ultraibolya (VUV) fotonokkal. Az ábra egy
10 percig besugárzott PC minta ATR-IR spektrumát mutatja egy kezeletlen
polimer referenciához viszonyítva. A negatív abszorbanciájú
csúcsok a hozzájuk rendelhető kötések felbomlásáról árulkodnak. Jól
látható, hogy a VUV besugárzás a PC fólia felszíni rétegében olyan kémiai
változásokat idéz elő, melyek mind az aromás gyűrűk
(1497 cm-1 és 1506 cm-1 aromás C-C szerkezeti
rezgés), mind pedig az észter kötés (1771 cm‑1
C=O nyújtási rezgés) roncsolását eredményezik.
2. PTFE fólia adhéziójának
megnövelése Xe2* excimer lámpa
alkalmazásával
A Teflon legközismertebb tulajdonsága az adhéziós viselkedése. Mivel igen alacsony felületi energiával rendelkezik, ezért nem nedvesíthető szinte semmilyen folyadékkal (kivéve néhány perfluorozott hidrokarbont) és önmagában nem is ragasztható. Mindez azt jelenti, hogy a PTFE hidrofób és oleofób is egyszerre. Ez azonban nem mindig kedvező tulajdonság, mivel gyakran van szükség valamely Teflonból készült tárgynak egy másikhoz való rögzítésére. Ekkor azonban a gyenge adhézió megakadályozza, hogy ezt a kötést ragasztással oldjuk meg. Kidolgoztunk azonban egy olyan eljárást, mely lehetővé teszi a Teflon minta felületi kémiájának, s ezen keresztül adhéziós tulajdonságának kontrollált módosítását. Ennek során a mintákat egy Xe2* excimer lámpával világítottuk meg vákuumkamrában 0.5-30 perces besugárzási időkkel. Ennek eredményeképpen jelentős mértékű adhézióváltozást értünk el. Elvégeztünk egy olyan kvantitatív vizsgálatot, melynek segítségével meg tudtuk határozni a kezelt Teflon réteg és egy adott ragasztó közötti kapcsolat szakítószilárdságát. Ennek során a vizsgálandó mintákat két plexi henger közé ragasztottuk UVRapid 20 típusú kétkomponensű epoxi ragasztóval. Öt nap kötési idő után az egyes hengerpárokat fokozatosan növekvő erővel húzni kezdtük ellentétes irányba, s megmértük, mekkora erő hatására tudjuk elszakítani a ragasztót a Teflon fóliától. Ezt az erőt elosztva a ragasztási felülettel, megkaptuk a szakítószilárdságot. Azt tapasztaltuk, hogy ennek értéke már a kétperces besugárzás esetén is meghaladhatja a 10 MPa-t!
Foundation for Research and Technology
Hellas
/Prof. Costas Fotakis/
FEMTOSZEKUNDUMOS EXCIMER LÉZERREL
BESUGÁRZOTT POLIMEREK FELÜLETI REFLEXIÓ VÁLTOZÁSÁNAK IDŐBELI VIZSGÁLATA
Egy
500 fs impulzushosszúságú, elosztott visszacsatolású
festéklézer alapú 248.5 nm
hullámhosszú lézerrendszer UV impulzusát ráfókuszáltuk a polimer mintára egy
hengerlencsével. Az excimer impulzushoz képest egy térbelileg
késleltetett 496 nm hullámhosszú, 500 fs-os festéklézert használtunk a felületi reflexióképesség
változásának vizsgálatára. Ez a próbanyaláb a minta felületéhez képest 45o-os
szögben megdöntve világította meg az ablált
felületet. Az arról visszaverődött nyalábot egy mikroszkóp objektívvel
képeztük le egy dióda sorra. A minta kezeletlen részéről reflektálódott
fényt egy réssel vágtuk ki.
Ezzel
az elrendezéssel elértük, hogy a minta egyetlen UV impulzus hatására
bekövetkező tranziens reflexióváltozását egyetlen próbaimpulzus reflektált
intenzitásának mérésével detektálni lehessen. Ugyanis a besugárzott felületre
megdöntve beeső festéklézer impulzus részei más és más időpontban
érik el a felületet, s onnan visszaverődve tükrözik annak adott
időpillanatbeli reflexiós állapotát. A vizsgált minták polimetil(metakrilát) (PMMA), polietilén(tereftalát)
(PET) és poliimid (PI) voltak. A kísérletek során azt
tapasztaltuk, hogy mindhárom minta esetén jelentősen megnő a
besugárzott felület reflexióképessége az abláló
impulzus beeséséhez képesti 0-10 ps tartományon.
Ennek oka az abláció során a felületen keletkező
igen vékony (néhány száz nm) rövid élettartamú plazma
tükör. A későbbi, esetlegesen UV tükörként vagy ultragyors optikai
kapcsolóként való alkalmazás szempontjából megvizsgáltuk, alkalmas-e a fentebb
említett plazma tükör PI fólia UV reflexióképességének növelésére. A kísérletek
szerint igen (az excimer lézer energiasűrűségétől függő mértékben),
amely igen fontos eredmény szubnanoszekundumos
excimer lézer impulzusok egyszerű előállításában.
Abteilung Experimentelle Physik, Universität Ulm
/Prof. Otmar Marti/
Kristályos Teflon vékonyrétegek pulzáló üzemmódú atomi erő
mikroszkópos vizsgálata
Impulzus lézeres leválasztási módszerrel Teflon
vékonyrétegeket készítettünk különböző hordozókra. A mikroszkópos
vizsgálatok azt bizonyították, hogy ezek szerkezete szemcsés, rücskös,
szivacsos jellegű. Ezért utólagos hőkezelésnek vetettük alá
őket. Az alkalmazott hőmérsékletek 320, 360, 420 és 500 Co voltak. Egy DAAD pályázat keretein belül az
így kapott rétegek felületét vizsgáltuk meg az Ulmi
Egyetemen. Ennek során egy pulzáló üzemmódú atomi erő mikroszkópot
használtunk a minták morfológiájának és adhéziós tulajdonságainak vizsgálatára.
Kimutattuk, hogy az effektív felület, a lokális adhéziós erők
és keménységek nagysága jelentős mértékben függ a kifűtés
hőmérsékletétől. Megállapítottuk, hogy a vékonyrétegek
minőségének, keménységének, homogenitásának szempontjából a
legkedvezőbb utókezelési hőmérséklet 360 oC
volt. A fűtési, hűtési hőmérsékletek, sebességek megfelelő
beállításával több száz mikrométeres nagyságú, gyűrűs szerkezetű
kristályos Teflon rétegeket sikerült előállítanunk.
N. Kresz,
J. Kokavecz, T. Smausz, B.
Hopp, M. Csete, S. Hild, O.
Marti: “Investigation of pulsed laser deposited
crystalline PTFE thin layer with Pulsed
Force Mode AFM”, közlésre
elfogadva a Thin Solid Film-be
Excimer lézeres
besugárzással felületkémiailag módosított Teflon fóliák adhéziós és morfológiai
vizsgálata
50 mikrométer vastagságú Teflon fóliákat sugároztunk
be alulról ArF excimer lézerrel. Az alkalmazott energiasűrűség 0.4-9
mJ/cm2 volt. A minták
felületére folyékony abszorbenst, trietiléntetramint
rétegeztünk. A Teflon fólián átmenő UV fotonokat ennek molekulái nyelték
el, melyek ezután kémiai reakcióba léptek a polimer molekulákkal. Ennek
eredményeképpen a Teflon molekulák fluor atomjainak egy része
amin csoportokra cserélődik, megváltoztatva ezzel a fólia felületkémiai
tulajdonságait. Ebben az esetben is egy pulzáló üzemmódú atomi erő
mikroszkópot használtunk a minták morfológiájának és adhéziós tulajdonságainak
vizsgálatára. Kimutattuk, hogy a lézeres kezelés hatására jelentősen
megnőtt a fólia adhéziója, amit nedvesedési szög
méréssel is alátámasztottunk. A vizsgálatok során azt is demonstráltuk,
hogy humán sejtek kiválóan tapadnak a kémiailag módosított felületekhez, ami az
eljárás későbbi gyógyászati alkalmazása szempontjából fontos eredmény.
B. Hopp, N. Kresz, J. Kokavecz, T. Smausz, H. Schiefendecker, A. Döring, O. Marti, Z. Bor:
“Adhesive and morphological characteristics of surface chemically modified
polytetrafluoroethylene films” Appl. Surf. Sci.